化學式: Si

電阻率(20°C):0.01-400Ω.cm

成型工藝:噴涂

密度:≥2.26g/cm3(≥96%)

純度:≥99.9%

應用:用于制作SiO2/Si3N4膜，主要用于光學玻璃，觸摸屏之AR膜系，LOW-E鍍膜玻璃，半導體電子，平面顯

示，觸摸屏

最大加工尺寸:長度:4000MM厚度:6-10MM，直型、狗骨型，按客戶要求定做